На сайте компании Toshiba опубликовано сообщение о подписании соглашения с SK Hynix, предметом которого является совместная разработка технологии нанопечатной литографии (Nano Imprint Lithography, NIL). Соглашение является следствием меморандума о взаимопонимании, подписанного во второй половине декабря прошлого года.

Специалисты двух компаний начнут совместную разработку базовых технологий нового техпроцесса на иокогамской площадке Toshiba в апреле этого года. Ожидается, что к практическому применению техпроцесс будут готов в 2017 году.

По теме NIL компания Toshiba уже сотрудничала с несколькими производителями оборудования и материалов, которые помогали интегрировать свои разработки в полупроводниковое производство Toshiba. Программа сотрудничества с SK Hynix направлена на ускорение практического внедрения новой технологии. Кроме того, участие партнера должно помочь Toshiba уменьшить расходы.

Наряду с литографией в жестком ультрафиолетовом диапазоне, NIL является одним их кандидатов на роль технологии, которая будет использоваться для выпуска микросхем памяти будущих поколений, сменив традиционную фотолитографию.